1. Tag: Mittwoch, 10. April 2019, 10:00 - 18:00 Uhr

       2. Tag: Donnerstag, 11. April 2019, 8:30 - 16:30 Uhr

• Grundbegriffe der Regelungstechnik, Blockschaltbild, Führungs- und Störverhalten einer Regelung
• R&I-(Rohrleitungs- und Instrumentierungs-)Fließbild
• Erweiterte Regelungsstrukturen
  • z. B. Störgrößenaufschaltung, Kaskaden- und Verhältnisregelung, Begrenzungsregelung, usw.
• Regelungsstrukturen für typische verfahrenstechnische Anlagen
  • Chemische Reaktoren
  • Pumpen und Verdichter
  • Wärmetauscher
  • Rektifikationskolonnen
• Typische Prozesse (Füllstands- und Druckbehälter, Mischer, Transportprozess, chemischer Reaktor)
  • Charakterisierung der Prozesse anhand physikalischer Gleichungen
  • Experimentelle Modellbildung (Identifikation) anhand Sprungantworten
• Stetige PI(D)-Regelung
  • Wirkung der Reglerparameter auf das Regelungsverhalten
  • Stellsignalbegrenzung
  • Erweiterungen des PI(D)-Reglers
  • Praktische Einstellregeln für den Reglerentwurf
• Zweigrößenregelung (z. B. bei der Destillation)
  • Paarung/Zuordnung der möglichen Stell- und Regelgrößen
  • Entkopplungsregelung für Wechselwirkungen
  • Modellbasierte prädiktive Regelung - Fallbeispiel
• Wahl des Reglertyps für verschiedene Prozesse
  • Proportionale, integrierende und Totzeitprozesse
  • Smith-Prädiktor für Totzeitprozesse
• Praktische Probleme der Prozessautomatisierung
  • Fehlersuche und Fehlerbehebung (Troubleshooting)
  • Schwingungsursachen (z. B. Ventilreibung)
  • Filtern von Messrauschen
  • Realisierung mit Prozessleitsystem
• Grundzüge der anlagenweiten Regelungen (plantwide control)