Korrosionsbeständige mikroverfahrenstechnische Apparate durch CVD-Beschichtung mit Tantal

T. Gietzelt, M. Kraut, F. Messerschmidt, W. Fürbeth, R. Dittmeyer

Chemie Ingenieur Technik 90, 8, 1037-1046

https://doi.org/10.1002/cite.201700168

Abstract

Die Wandstärken mikroverfahrenstechnischer Apparate sind mit denen konventioneller Rührkessel in der chemischen Industrie nicht vergleichbar. Bereits Chargenunterschiede innerhalb der technischen Spezifikationen für übliche korrosionsbeständige Werkstoffe können zu signifikanten Abweichungen der Abtragsraten führen und die Lebensdauer signifikant begrenzen. Um Korrosionserscheinungen möglichst vollständig auszuschließen, eignet sich Tantal aufgrund seiner hervorragenden Beständigkeit sehr gut. Es wird gezeigt, dass für Mikroapparate typische Kanalquerschnitte bei großer Länge mittels einer CVD‐Beschichtung völlig defektfrei und homogen mit Tantal beschichtet werden können. Dauertests in 70 %iger Schwefelsäure ergaben keinerlei Masseverlust oder Abtrag.

 

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